關於真空鍍膜的問題，請幫我回答。

恐怕你因為這些問題可能打不了人家100分，所以再做一年吧，你不知道嗎？ 二是你們公司太無能為力了，連探測器都買不起，而且也不過20多萬。

油漆取決於塗層基材是什麼材料，一般有特殊的，稀釋劑和油漆都有描述。

1、真空系統最簡單的檢查是將丙酮噴到連線位置，如果真空指示瞬間波動，則有洩漏。 如果系統通常在10分鐘後達到一定的真空度，而突然在一天內無法達到真空度，則為漏氣：因此應每天記錄一次真空到達時間。

2、真空室的清洗在原有狀態下看得最好，即金屬應能看到其真面目; 最直觀的是腔壁或吊架上的膜層最大部分達到幾公釐以上，或者定期清洗，如每週一次、3天等。 衣架應經常清洗，不超過一周; 但也可以簡單處理，只需噴沙或刮掉薄膜即可;

3、一般情況下，擴散幫浦油應在一年左右更換，否則顏色變深時可改變顏色; 更換方法是：拆下幫浦，拆下幫浦芯塔，倒出廢油，可用120汽油或四氯化碳清洗塔體、幫浦室，必要時可用細砂紙打磨; 清洗後，用吹風機烘乾或烘乾（注意安全），依次安裝，加油（一般幫浦有油量和型號），安裝後測試真空度。

4、產品的灰塵和油漬可用丙酮擦拭或用酒精超聲波清洗;

我不明白。

所謂真空鍍膜，就是將待鍍材料與待鍍基材置於真空室中，將待鍍材料用一定方法加熱，蒸發或昇華，濺到待鍍基材表面形成薄膜的過程。 在真空條件下，成膜可以減少蒸發物質的原子和分子在飛向基體的過程中與分子的碰撞，減少氣體中的活性分子與蒸發源材料之間的化學反應（如氧化等），減少成膜過程中進入薄膜成為雜質的氣體分子量， 從而提供薄膜基材的密度、純度、沉積速率和附著力。真空蒸發通常要求成膜室內的壓力等於或低於10-2Pa，當蒸發源遠離基材且膜質很高時，壓力較低。

在蒸發塗層過程中，從薄膜表面蒸發的顆粒以一定的速度在空間中直線運動，直到與其他顆粒碰撞。 在真空室中，當氣相中顆粒的濃度和殘餘氣體的壓力足夠低時，這些顆粒可以從蒸發源直線飛到基板上，否則，它們會碰撞並改變運動方向。 因此，有必要增加殘餘氣體的平均自由程，以減少其與蒸發顆粒的碰撞，並將真空室幫浦入高真空。

蒸發顆粒的平均自由程必須遠大於蒸發距離，以避免蒸發顆粒在遷移到基體的過程中與殘餘氣體分子的碰撞，從而有效減少蒸發顆粒的散射現象。 目前常用的蒸發塗佈機的蒸發距離不超過50厘公尺。 因此，如果要防止大量蒸發顆粒的散射，真空蒸鍍膜廠中真空鍍膜室的初始真空度必須高於10-2 pA。

如果真空度高，則真空鍍膜質量更好。

所有塗層技術都需要蒸發源或靶材將蒸發的薄膜材料轉化為氣體。 由於源或靶材的不斷改進，薄膜材料的選擇範圍大大擴大，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷還是有機物質，都可以蒸發各種金屬薄膜和介電膜，同時蒸發不同的材料得到多層膜。

它以真空技術為基礎，採用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控管等一系列新技術，為科研和實際生產提供薄膜製備的新工藝。

簡單來說，真空鍍膜是在真空中蒸發或濺射金屬、合金或化合物以固化並沉積在被鍍物體（稱為基材、基材或基材）上的方法。

它與塗層產品的顏色、耐磨性和牢固度直接相關。 在鍍膜過程中通常加入少量氣體，通過控制電弧電源，可以提高真空室中基板材料的電離率。 它也可以由磁場控制。

等待改變產品的外觀和內在質量。 主要影響在於塗層工藝。 無論採用何種鍍膜方法，真空度越高，爐內雜質氣體原子就越少，鍍膜的成分將更接近您想要的比例。

簡單來說，純度和結晶度更可控。

蘇州科陽塗料產品****以PVD真空鍍膜為核心業務，對各種塑料件進行表面鍍膜加工。 根據客戶的需求，我們可以提供包括模具、注塑、噴漆、印刷、雷射雕刻在內的一站式綜合服務。 我們的工藝和產品已成功應用於汽車、消防、通訊、計算機、消費電子、照明、化妝品、包裝等多個行業。

公司於2015年在中國蘇州成立，憑藉ARWI超過52年的技術積累和持續研究，在遮蔽塗層、導電塗層、NCVM非導電塗層、高反射塗層等領域保持領先地位，成為行業領導者。 始終恪守誠信的原則，為客戶提供一流的質量和非常經濟的產品，產品遠銷國內外，獲得眾多國際...

總結。 眾所周知，在一些材料的表面，只要塗上一層薄膜，材料就可以具有許多新的和良好的物理化學效能。 在20世紀70年代，物體表面塗層的主要方法是電鍍和化學鍍。

在前者中，電解液通過通電進行電解，並將電解後的離子作為另乙個電極鍍在基板表面，因此在這種塗層的條件下，基板必須是電的良導體，並且膜的厚度難以控制。 後者是採用化學還原法，必須將膜配製成溶液，並能迅速參與還原反應，這種包衣方法不僅膜的結合強度差，而且包衣既不均勻也不容易控制，而且還會產生大量的廢液， 造成嚴重汙染。因此，這兩種塗層工藝（稱為濕法塗層方法）非常有限。

真空鍍膜是相對於上述濕法鍍膜方法發展起來的一種新型鍍膜技術，俗稱乾法鍍膜技術。

真空鍍膜可以重新鍍膜嗎？

不。 我想要 2 種塗層。 在撞擊之前，有必要處理塗層。

真空鍍膜是真空應用的乙個重要方面，它是在真空技術的基礎上，採用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁學等一系列新技術，為薄膜製備提供新的工藝，用於科學研究和實際生產。 簡單地說，在真空中蒸發或濺射金屬、合金或化合物以凝固並沉積在被塗層物體（稱為基板、基板或基板）上的方法稱為真空鍍膜。

眾所周知，在一些材料的表面，只要塗上一層薄膜，材料就可以具有許多新的和良好的物理化學效能。 在20世紀70年代，物體表面塗層的主要方法是電鍍和化學鍍。 在前者中，電解液被電解，電解芹菜的離子作為另乙個電極鍍在基板表面，因此基板必須是電的良導體，並且薄膜的厚度難以控制。

後者是採用化學還原法，必須將膜配製成溶液，並能迅速參與還原反應，這種包衣方法不僅膜的結合強度差，而且包衣既不均勻也不容易控制，而且還會產生大量的廢液， 造成嚴重汙染。因此，這兩種塗層工藝（稱為濕法塗層方法）非常有限。 真空鍍是相對於上述濕法鍍膜方法發展起來的一種新型鍍膜技術，俗稱乾法鍍膜技術。

總結。 1、表面清潔度 產品表面清潔度不夠，清洗離子源時可考慮氬氣放大和時間長。 2、清洗過程中的問題是電鍍前的清洗不到位，或者更換了清洗液。

3、工藝引數是否發生變化，應適當調整塗佈時間和電流。 4、鈦靶是否中毒，檢查更換。 5、真空室是否漏水。

6、產品表面出現氧化、氧化的原因很多，可以自行判斷處理。

1、表面清潔度 產品表面清潔度不夠，清洗離子源時可考慮氬氣放大和時間長。 2、清洗過程中的問題是電鍍前的清洗不到位，或者更換了清洗液。 3、工藝引數是否發生變化，應適當調整塗佈時間和電流。

4、鈦靶是否中毒，檢查更換。 5、真空室是否漏水。 6、產品表面氧化氧化的原因很多，可以自行判斷處理。

尺子底座攜帶。 真空鍍膜技術是一種用於材料合成和加工的新型新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。 真空鍍膜技術是利用物理和化學手段，在固體表面塗上一層特殊效能的塗層，使Voy Kit的固體表面具有耐磨、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、缺乏純防輻射、導電性、導磁性、絕緣和裝飾性等諸多優於固體材料本身的優越性能， 提高產品質量，延長產品壽命，節約能源，獲得顯著的技術和經濟效益。因此，真空鍍膜技術被譽為比較有前途的重要技術之一，在高新技術產業化的發展中顯示出誘人的市場前景。

它主要用於高真空下的鍍膜，有很多行業使用它，如汽車、醫療、運輸、機械、服務等，現在它是一種非常貼近人們生活的鍍膜裝置。 真空前鍍膜裝置是鍍膜行業的重要組成部分，沒有先進高效的鍍膜裝置，就沒有現代鍍膜行業。