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電晶體的工作原理實際上與水龍頭的工作原理相似,因此很容易理解!
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電晶體由夾在一層P型或N型二極體之間的兩個N型或P型二極體組成,分為集電極、基極和發射極。 集電極負責補充能量,基極負責觸發控制,發射器負責輸出。 由於其特殊的結構,在發射區注入的電子量是基極處電子量的幾倍,當基極訊號電流導通時,發射極電流被觸發,如基極進入乙個電子,發射極可能流出幾個或幾百個電子, 從而達到所謂的電流放大。
1)為了便於發射結發射電子,半導體在發射區的摻雜溶解度遠高於半導體在鹼區的摻雜溶解度,發射結的面積小。
2)雖然發射區和集電極區是性質相同的摻雜半導體,但發射區的摻雜溶解度高於集電區,集電結的面積大於發射結的面積,便於收集電子。
3)連線發射結和集流體結的兩個PN結的鹼區很薄,摻雜溶解度也很低。
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電晶體的工作原理:通過輸入小交流電,控制大的靜態直流電。
具體原理:電晶體可以不斷監測基極和發射極之間的電流和流動,並能控制集電極和發射極之間的電流源,使基極和發射極之間的電流在集電極和發射極之間流動十到上百倍。 換句話說,集電極-發射極電流由電晶體的基極電流控制。
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分類: 教育 科學 >> 科學 >> 工程技術 科學 科學 分析:電晶體的工作原理。
電晶體是一種控制元件,主要用於控制電流的大小,以普通發射極連線方式為例(訊號從基極輸入,集電極輸出,發射極接地),當基極電壓UB有小變化時,基極電流IB也會有小變化, 在基極電流IB的控制下,集電極電流IC會有很大的變化,基極電流IB越大,集電極電流IC越大,反之,基極電流越小,集電極電流越小,即齊孝基極電流控制集電極高、中電流的變化。但集電極電流的變化遠大於基極電流的變化,這就是電晶體的放大效應。 IC的變化與IB的變化之比稱為電晶體的放大倍數(IC δib,δ表示變化的量。 電晶體的放大倍率一般在幾十到幾百倍之間。
電晶體在放大訊號時,必須首先進入導通狀態,即需要建立合適的靜態工作點,也稱為建立偏置,否則會放大失真。
電晶體的集電極和電源之間連線乙個電阻器,可以將電流放大轉換為電壓放大:當基極電壓UB增大時,IB變大,IC也變大,IC在集電極電阻RC中的壓降也更大,因此電晶體UC的集電極電壓會降低, UB越高,UC越低,δuc=δub。僅供參考,請參閱相關書籍。
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真空三極體的發明者是美國科學家Lee de Forest(1873-1961)。 1904年,弗萊明發明了第乙個電子管,方法是在真空中加熱的導線(燈絲)前面加乙個板極,他把這種帶有兩極二極的電子管稱為二極體,利用新發明的電子管,電流可以整流,使**接收器或其他記錄裝置可以工作 當我們開啟普通的電子管收音機時,我們可以很容易地看到燈絲被燒紅的電子管是電子裝置工作的核心,也是電子工業發展的起點。