我國國產光刻機的最低工藝是什麼？

我國國產光刻機的最小工藝]我國目前國產光刻機的最小工藝是90奈米。從 90 nm 公升級到 65 nm 並不難。 但 45 奈米是乙個技術步驟。

45nm 比 90nm 和 65nm 更難開發。 如果求解45nm，公升級到32nm並不難。 但下一步是公升級到22nm，不能直接從45nm公升級到22nm。

22nm使用了很多新技術。

中國16個重大專案中有2個被提出。 2015年，光刻機將在45奈米和65奈米上實現產業化，到2020年，它將在22奈米上實現工業化。

光刻機】又稱：紫外機、掩模對準機、系統、光刻系統等。 常用的光刻機是掩模對準光刻，故稱為掩模對準系統。

一般光刻工藝需要經過矽片表面清洗乾燥、灌注、旋塗光刻膠、軟乾燥、取位、後烘烤、顯影、硬乾燥、蝕刻等工序。 它是將矽片表面均質化，然後將掩模版上的圖案轉移到光刻膠上，將器件或電路結構暫時“複製”到矽片上的過程。

光刻機不知道。 目前國內最好的工藝是65nm，差不多是90，大量工廠停留在水平上。 據說中芯國際已經拿走了45，但沒有動靜。

中國大陸國家預生產光刻機由於剛剛解決了光源問題，目前量產的是90 65nm，45nm樣機已經問世，可用於28nmHKMG工藝生產的國家樣機，計畫2020年底2021年左右問世，2025年左右可生產14 10nm機器，第一代EUV 7 5nm機器計畫於2030年國產化。 第二代和第三代EUV和GAA環繞柵極電晶體技術在5nm以下的高數值孔徑仍處於圖紙的前期開發階段。

光刻機很難生產，這東西對我們來說是乙個技術難點，或者說是乙個技術壁壘，我們沒有這樣的技術，就算有精度，也不夠。 它不能滿足現在實際生產需求的要求，這東西的真正生產不能由單一的廠家來做。 <>

真正高階的光刻機，別說還處於實驗階段，兩奈米的，也就是5奈米和7奈米的機器，基本上只有國外廠商有限才能生產出來。 他們能生產的不是技術是自己的，而是他們和世界上很多其他的尖端技術公司有技術交流，上千家公司，就是每個公司負責一部分精密零件，然後世界上只有少數幾家公司，他們才有這麼乙個比較完整的產品**。 然後我自己就有了關鍵的組裝技術，還有一些主要的框架技術核心技術以他們自己的方式，他們能夠製造出一台真正準備好投入生產的光刻機。

而國外對此非常保守，那就是統一的態度，如果你想做晶元，我們可以給你貼牌，我們可以幫你生產，你只要給錢就行了。 但是你不能想要一台光刻機，不管你給多少錢都賣不出去，就是不要賣。 不是錢的問題，這東西在市場上是無價之寶，別說10億，你只要多付點錢，沒有廠家敢賣給你，這不僅僅是商業公司的問題，更是國家之間的技術壁壘問題。

這個東西很重要，因為你平時用的智慧型裝置，手機，智慧型手環，電腦，包括電視機，裡面都會有晶元，有些晶元，有些晶元可以自己製造。 但是真正的高階晶元，我們現在還沒有這台機器，這是我們現在逐漸擁有的設計能力，我們可以開發它，但是我們不能量產，沒有真正的高階晶元，我們不得不依靠國外公司代工。 但現在他們阻止了你如果人家不給你代工，這件事情會很麻煩，我們以後肯定會把資源和力量集中在這些技術上，但這確實不是短期內能做到的。

這很難。 由於光刻機需要大量的精密儀器，對精度要求非常高，因此很難生產。

我覺得光刻機確實比較難生產，生產起來也比較麻煩，所以現在它的**比較高，比較少。

光刻機的生產是非常困難的，因為它是一台精密儀器，每個環節都需要非常小心。

光刻機是通過矽片，從而對表面進行清潔、乾燥和塗覆光刻膠、對準、示教、轉移等工序來完成工作; 一台光刻機每年可以生產1億個晶元。

光刻機的工作原理是對矽片表面進行清洗和乾燥，旋塗光刻膠，對準，脫膠，清洗，轉移等諸多工序，一台光刻機一年可生產1億片晶元。

光刻機在矽片上工作，對矽片進行加工，塗上一些光刻膠，然後**，一台光刻機每年至少可以製造1億個晶元。