超純水裝置在電子行業有什麼用途？

EDI高純水裝置技術先進。

無需化學再生劑，生產過程中無汙染，屬於清潔生產;

無需停機再生，連續生產水質穩定的高純水（15 18m cm）;

執行穩定可靠，維護簡單，執行成本低;

占地面積小，節省了現場建設成本。

EDI高純水裝置的主要作用和應用範圍。

EDI的作用是去除鹽分。 在利用RO滲透水去除97-99%離子的前提下，EDI可直接將反滲透滲透液淨化到純水、高純水和超純水的標準，無需使用離子交換混床，滲透液的電阻率可達18 m cm。

EDI裝置在水質要求高的行業中有著廣泛的應用。 在電子工業、科研實驗室、檢驗分析行業常用EDI生產18厘公尺以上的超純水，在精細化工、發電、電鍍行業常用EDI生產15厘公尺以上的高純水，在醫院和製藥行業常用EDI生產5厘公尺以上的純水， 在食品和飲料行業使用EDI生產超過一次純水等。

電子行業的超純水裝置可以使水質更加穩定，可以高效去除水中的各種鹽分，脫鹽率可達99%，從根本上改善水質，延長工作週期，幫助企業實現穩定生產。

電子行業超純水裝置工藝流程：

水源入口--原水儲罐--多介質過濾器--活性炭過濾器--阻垢裝置--5微公尺精密過濾器--兩級反滲透純水機組--反滲透儲水罐--EDI超純水生產機組--超純水儲罐。

電子工業的超純水裝置用於電池的生產。

因為電池中的電解液對純水的要求非常嚴格。 水的電導率通常要求在10萬億歐姆以上。

電池行業對水的需求量很大，所以在選擇水處理裝置時，會選擇出水質量最好的裝置，超純水裝置成為其首選目標。

電子、半導體、液晶顯示器等行業在生產過程中往往需要使用極純的超純水。 如果水質不符合生產工藝用水的要求或水質不穩定，會影響後續工序的處理效果和使用壽命，因此水質非常重要。 超純水裝置在淨化水質方面有很好的效果，是很多企業都會選擇的水處理裝置。

超純水裝置一般包括預處理系統、反滲透裝置、後處理系統、清洗系統和電氣控制系統。

預處理系統一般包括原水幫浦、加藥裝置、石英砂過濾器、活性炭過濾器、精密過濾器等。 其主要作用是降低原水和餘氯等其他雜質的汙染指數，滿足反滲透的進水要求。 預處理系統的裝置配置應根據原水的具體情況而定。

反滲透裝置主要包括多級高壓幫浦、反滲透膜元件、膜殼（壓力容器）、支架等。 其主要作用是去除水中的雜質，使採出水的水質符合使用要求。

後處理系統是反滲透不符合出水要求時的附加配置。 主要包括陰床、陽床、混床、殺菌、超濾、EDI等一種或多種裝置。 後處理系統可以更好地提高反滲透出水的質量，以滿足使用要求。

清洗系統主要由清洗水箱、清洗水幫浦和精密過濾器組成。 當反滲透系統受到汙染時，出水指標不能滿足要求，需要對反滲透系統進行清洗以恢復功效。

電氣控制系統用於控制整個反滲透系統的正常執行。 包括儀表板、控制面板、各種電氣保護、電氣控制櫃等。

以上系統共同構成一整套超純水裝置，超純水裝置配製的工業純水純度可達18m·cm，且系統穩定，使用壽命長，生產過程中產生的廢水可回用再生，節能環保。

超純水裝置應用行業1.電解電容器生產用鋁箔及工作部件的清洗。

2.電子管生產，電子管陰極塗覆碳酸鹽溶液。

3.用於映象管和陰極射線管的生產和配料的純水。

4、純水用於生產黑白映象管螢光屏、玻璃外殼清洗、沉澱、潤濕、洗膜、管徑清洗。

5、液晶顯示器的製作和平面需要用純淨水清洗，並與純水混合。

6.電晶體在電晶體生產中主要用於清洗矽片，少量用於製備化學溶液。

7、積體電路生產：生產中高純水清洗矽片、高品質映象管、螢光粉。

8.半導體材料、器件、印刷電路板和積體電路。

9. LCD， LED LCD 顯示屏， PDP等離子顯示屏.

10、超純材料及超純化學試劑、超純化學材料、實驗室及中試工廠。

11、汽車及家電、光電產品等高科技微產品的表面拋光處理。

EDI水處理系統涉及的行業和領域：

電解電容器生產，鋁箔和工件的清洗。

管材生產，電子管陰極塗層碳酸鹽製備。

用於映象管和陰極射線管的生產和配料的純水。

生產黑白映象管螢光屏、玻璃外殼清洗、沉澱、潤濕、洗膜、頸部清洗用純水液晶顯示器、純水清洗用純水和純水用液晶管生產主要用於清洗矽片，少量用於化工液體製備積體電路生產介質和高純水清洗矽片。

半導體材料、器件、印刷電路板和積體電路。

LCD顯示，PDP等離子顯示。

生產高品質映象管和螢光粉。

晶圓材料生產、加工、清洗。

超純材料及超純化學試劑，超純化學材料。

實驗室和中試工廠。

汽車、家電、建材產品等表面處理用純水光電產品等高科技微產品。

電鍍（鍍金、鍍銀、塑料鍍、鍍鉻、鍍鋅等）用高純水進行水玻璃鍍膜。

超聲波清洗用純水，電泳用純水。

1、飲料及食品工業：礦泉水、濃縮果汁、天然水、礦泉水、啤酒生產用水、調酒用純水、食品加工用超純水、飲料生產、生活飲料等生產工藝。

2、太陽能光伏行業：用於單晶矽、矽片切割、太陽能電池、半導體矽材料等工藝的純水和超純水。

3、電子行業：半導體晶圓切割與製造用超純水、半導體晶元、半導體封裝、引線框架、積體電路、印刷電路板、液晶顯示器、觸控螢幕、眼鏡鏡片、數位相機鏡頭、導電玻璃、映象管、電路板、光通訊、計算機元件、電容器潔淨製品及各種元件。

4、化工行業：化工工藝用水、化學試劑、化工生產用水、精細化工、化妝品、洗滌劑、洗衣粉、印表機油墨等生產過程用純水。

5、生物醫藥行業：生物技術用水、製藥生產用水、生化產品用水、注射劑、粉劑注射劑、藥房、大輸液、醫用無菌用水、口服液等符合GMP標準。

6、常規行業：鍍膜玻璃用純水、電鍍噴塗、鋁氧化、真空鍍膜、光學鍍膜、表面鍍膜、紡織印染、汽車電器、電池、工業液體製備、工業產品清洗等生產工藝。

7、電力行業：火電廠、火電廠、鍋爐發電等領域的純水和超純水。

8、軟化水及軟化水裝置：各類蒸汽鍋爐、火力發電廠、熱水器、石化熱力鍋爐等補給水。

製造業：汽車、玻璃、鋼鐵、造紙、紡織等電力行業：鍋爐、火電、發電、製冷、回收等餐飲行業

飲料、食品、乳品、飲用水、酒店等電鍍行業：塗裝、照明、冷卻、金屬化、LED燈具等光電行業：光伏、光電照明、新能源、LED燈具等電子行業

電器、晶元、電路板、微控制器、電子元器件等，醫藥行業：醫藥、器械、口服液、成品藥、生物製品等能源行業：氧化物、半導體、矽材料、多晶矽、金屬提取等。

超純水裝置的應用領域：

1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、塗裝、電池、檢測、生物、製藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

2、純水用於化工用水、化學藥劑、化妝品等。

3.純水用於單晶矽、半導體晶圓切割製造、半導體晶元、半導體封裝、引線櫃、積體電路、液晶顯示器、導電玻璃、映象管、電路板、光通訊、計算機元件、電容器潔淨產品及各種元件的生產過程。

4.食品工業用水：飲用純淨水、礦泉水、材料、啤酒、乳製品等。

5.海水和苦鹹水淡化：改善島嶼、船舶和高鹽度的生活用水。

6.建築和社群優質供水：星級酒店、機場、房地產純水管網系統等。

7.化工用水：化工冷卻、化肥、化學藥劑製造。

8.工業產品製造用水：汽車、家電塗料、塗料、油漆、精加工清洗等。

9.電力行業鍋爐補給水：火力和火力發電鍋爐、中低壓鍋爐動力系統、精細化學品、尖端學科用水。

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超純水裝置應用範圍：

1）石油化工行業：迴圈水、高階汙水處理、化工產品製造等。

2）製藥行業：輸液、注射劑、片劑、生化產品、製藥生化純化水裝置、裝置清洗等。

3）電子行業：冶金、銅、積體電路、矽片、顯示管等電子元器件加工等。

4）鍋爐行業：脫氧水、軟化水、鍋爐水軟化等。

5）食品工業：飲用純淨水、飲料、啤酒、白酒等與海水、苦鹹水淡化等。

6）電鍍行業：汽車零部件電鍍、工業電子產品的鍍金、鍍銀、鍍鉻等水。

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如今，超純水系統工藝主要有三種型別，其他工藝基本上都是在這三類的基礎上從不同的組合和搭配中衍生出來的。 現在這裡列出了這三個過程的優缺點。

1、EDI電子專用超純水裝置採用的第一道工序主要採用離子交換樹脂，優點表現為投資少，占用的地方不是很大，但缺點也非常明顯，必須頻繁再生，對環境有一定的破壞。

2、第二道工序採用反滲透技術作為預處理裝置技術，該工藝的缺點比前一道工序更嚴重，初期投資遠高於前一道，唯一的優點是EDI電子專用超純水裝置的再生時間間隔比較長， 並且對環境也有一定程度的汙染。

3、第三道工序也是採用反滲透作為預處理裝置，第三道工序是生產超純水最經濟、最環保的工藝，無需裝置再生，周圍環境基本無汙染。 但缺點是與上述兩種方法相比，資金投入仍然太高。

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超純水裝置其實就是純水裝置，因為純水說是不含雜質的水，但是使用的工藝是不同的，一般來說，反滲透水也屬於純水，純水只是乙個總稱。

超純水裝置與其他裝置的區別主要是由於工藝不同，業界一般將EDI裝置或混床處理工藝處理的水稱為超純水，裝置中採用滅菌滅菌系統並符合GMP要求的裝置稱為純化水裝置， 只有經過反滲透工藝處理的水才稱為純水裝置。

超純水裝置是一種水處理，它採用預處理、反滲透技術、超淨化處理和後處理方法，將水中的導電介質幾乎完全去除，並將水中不解離的膠體物質、氣體和有機物去除到很低的水平。 讓我們來看看它的功能和用途。

裝置特點： 1：整合度高，易於擴容，增加膜數量可增加加工能力。

2：自動化程度高，發生故障立即自動停止，具有自動保護功能。

3：膜元件採用複合膜軋制，表現出更高的溶質分離率和透光率。

4：能耗低，用水率高，執行成本低。

5：結構合理，占地面積少。

6：先進的膜保護系統，當裝置關閉時，淡化水可以自動沖洗掉膜表面的汙染物，延長膜的使用壽命。

7、系統無易損件，不需要大量維護，長期有效。

8：裝置設計有膜清洗系統的阻垢劑系統。

主要用途： 1、超純物料和超純試劑的生產和清洗。

2、電子產品的生產和清洗。

3.電池產品的生產。

4.半導體產品的生產和清洗。

5.電路板的生產和清洗。

6.生產其他高科技精細產品。